[发明专利]一种基于EPICS的四刀狭缝控制系统及其控制方法无效
申请号: | 201210111385.X | 申请日: | 2012-04-16 |
公开(公告)号: | CN102621910A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 刘平;张招红;胡纯;米清茹;郑丽芳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海应用物理研究所 |
主分类号: | G05B19/04 | 分类号: | G05B19/04 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 邓琪 |
地址: | 201800 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种基于EPICS的四刀狭缝控制系统及其控制方法,其中,所述系统包括上位机;以及连接在所述上位机和第一至第四狭缝电机之间的IOC控制器,其一方面根据所述上位机提供的所述四刀狭缝的口径值和/或口径中心点位置信息以及预设的第一至第四刀片位置与四刀狭缝的孔径以及口径中心点位置的关系模型,计算得到第一至第四刀片的目标位置信息,并根据该第一至第四刀片目标位置信息向所述第一至第四狭缝电机输出相应的控制信号。本发明在基于实现对狭缝电机的独立驱动的基础上,实现狭缝电机的联动控制,从而调节狭缝口径的大小以及实现口径中心点位置的偏移控制,进而实现了对束流光斑形状的调节,满足了科学实验的物理需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 epics 狭缝 控制系统 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种基于EPICS的四刀狭缝控制系统,所述四刀狭缝由在XY坐标系上移动的第一至第四刀片围成,其中,所述第一刀片位于X坐标负方向,第二刀片位于X坐标正方向,第三刀片位于Y坐标负方向,第四刀片位于Y坐标正方向,且所述第一至第四刀片的位置分别通过第一至第四狭缝电机控制,其特征在于,所述系统包括:上位机;以及连接在所述上位机和第一至第四狭缝电机之间的IOC控制器,其一方面根据所述上位机提供的所述四刀狭缝的口径值和/或口径中心点位置信息以及预设的第一至第四刀片位置与四刀狭缝的孔径以及口径中心点位置的关系模型,计算得到第一至第四刀片的目标位置信息,并根据该第一至第四刀片目标位置信息向所述第一至第四狭缝电机输出相应的控制信号,以控制所述四刀狭缝的口径和/或中心点位置,其另一方面向所述上位机反馈根据从所述第一至第四狭缝电机接收到的第一至第四刀片的实际位置信息,以及根据该第一至第四刀片的实际位置信息和所述关系模型计算得到的四刀狭缝的实际口径值和/或实际口径中心点位置信息。
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