[发明专利]形状测量设备有效
| 申请号： | 201210113003.7 | 申请日： | 2012-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN102749039A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 根本贤太郎;山县正意;岩本正;町田信美 | 申请（专利权）人： | 株式会社三丰 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邸万奎 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使由所述工件反射的反射光成像；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，并且，所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理。所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。 | ||
| 搜索关键词： | 形状 测量 设备 | ||
【主权项】：
一种形状测量设备，包括：光照射单元，其将线状光照射到工件上；成像元件，其使从所述光照射单元照射的光的反射光成像，所述反射光由所述工件反射；以及成像透镜，其将由所述工件反射的反射光的像形成在所述成像元件的成像平面上，其中所述光照射单元的光照射平面、包括所述成像透镜的主点的主平面、以及所述成像元件的成像平面满足沙姆普弗鲁克原理，其中所述形状测量设备还包括：像获取区域选择单元，其将所述成像元件的成像平面划分为多个区域，并响应于测量精度和测量范围的大小中的至少一个，从所述多个区域中选择用于在测量中使用的区域作为像获取区域。
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