[发明专利]一种光谱测量装置有效
| 申请号： | 201210113260.0 | 申请日： | 2012-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN102680098B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 潘建根 | 申请（专利权）人： | 杭州远方光电信息股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28;G01J3/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310053 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光谱测量装置，包括入射狭缝、色散元件和成像元件等光学元件，在光学元件表面镀有光谱选择性薄膜，光谱选择性薄膜的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应，镀有光谱选择性薄膜的光学元件仅能出射薄膜选择波段内的光线，而大幅衰减光路中其他波长的光线，从而大幅降低光学系统的杂散光水平。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种光谱测量装置，包括入射狭缝(1)、色散元件(2)和一个或多个成像元件(3)，光线从入射狭缝(1)进入光谱测量装置，经色散元件(2)分光后，成像元件(3)将色散光会聚成像，其特征在于，在成像元件(3)的表面镀有光谱选择性薄膜(4)，所述的光谱选择性薄膜(4)的选择波段与光谱测量装置的测量波段相对应；还包括阵列探测器，成像元件(3)将色散光成像到阵列探测器的光敏面上，在所述的阵列探测器光敏面的不同像素区域上镀有与探测波长相对应的光谱选择性薄膜(4)。
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