[发明专利]用于半导体装置的导线构造及其制造方法无效
申请号: | 201210116996.3 | 申请日: | 2012-04-20 |
公开(公告)号: | CN102664173A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 唐和明;翁肇甫;叶昶麟;洪志斌;赖逸少 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/488 | 分类号: | H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾高雄巿*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种用于半导体装置的导线构造及其制造方法,所述导线构造包括先加热一含铟材料,使所述含铟材料熔化形成一含铟焊球;并提供一铜导线,所述铜导线具有一前端;以及,使所述铜导线的前端与所述含铟焊球相结合,以构成一导线构造。所述铜导线通过所述含铟焊球的媒介而结合在一芯片的一接垫上,因此可确保所述接垫的结构完整性,以便提升铜导线的打线工艺的加工质量及良率。 | ||
搜索关键词: | 用于 半导体 装置 导线 构造 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种用于半导体装置的导线构造,其特征在于,包含:一铜导线,具有一前端;以及一含铟焊球,结合在所述铜导线的前端,其中所述铜导线的前端插入所述含铟焊球内,以构成一导线构造。
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