[发明专利]一种用于PECVD设备的自动炉门机构无效
| 申请号： | 201210118106.2 | 申请日： | 2012-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN102719805A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 胡振东;易文杰;袁卫华;许波涛 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于PECVD设备的炉门机构，为了解决石英管的密封问题，本发明包括两个双作用气缸，一个底座，一连杆，一个炉门法兰，两个导轨。其中两个双作用气缸实现炉门法兰的开关运动，并且通过炉门法兰和连杆之间的挠性连接来实现简单可靠的真空密封，从而确保设备真空良好和设备的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pecvd 设备 自动 炉门 机构 | ||
【主权项】：
一种用于PECVD设备的自动炉门机构，包括设在石英管(8)管口的炉门法兰(4)，其特征是，还包括一端挠性连接在炉门法兰(4)外侧的连杆(3)，该连杆(3)的另一端铰接在底座(1)上，该底座(1)上装有驱动炉门法兰(4)绕连杆(3)与底座(1)连接点旋转的x向汽缸(2)，和驱动炉门法兰(4)沿y方向往复移动的y向汽缸(5)；所述x向汽缸(2)的活塞杆铰接在连杆(3)上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
