[发明专利]具有微构造的外延结构体有效
| 申请号： | 201210122533.8 | 申请日： | 2012-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN103378236B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | 魏洋;范守善 | 申请（专利权）人： | 清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/02 | 分类号： | H01L33/02;H01L33/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区清*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有微构造的外延结构体，其包括一外延层及一石墨烯层，所述外延层一表面具有多个凹槽及多个凸起以形成一图案化表面，所述石墨烯层具有多个开口，所述石墨烯层设置于该外延层的图案化的表面，并嵌入该外延层的多个凹槽中，所述外延层的多个凸起由所述石墨烯层的多个开口露出。本发明具有微构造的外延结构体的位错缺陷较少，且外延层与衬底之间的应力较小，质量高。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 构造 外延 结构 | ||
【主权项】：
一种具有微构造的外延结构体，其特征在于，其包括一外延层及一石墨烯层，所述外延层一表面具有多个凹槽及多个凸起以形成一图案化表面，所述石墨烯层为具有多个开口，所述开口的尺寸为10纳米～1微米，不含1微米的端点，所述石墨烯层设置于该外延层的图案化的表面，并嵌入该外延层的多个凹槽中，所述外延层的多个凸起由所述石墨烯层的多个开口露出，所述石墨烯层为具有多个开口的连续的整体结构体，所述石墨烯层的厚度为一个碳原子厚度，所述石墨烯层的占空比为1∶4～4∶1。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司，未经清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210122533.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
