[发明专利]有辅助相位区的相移掩模

摘要

有辅助相位区的相移掩模。一种相移掩模，有棋盘形阵列和包围的子分辨率辅助相位图形。该棋盘形阵列包括有180度相对相位差的交替相移区R。该子分辨率辅助相位区R′驻留在相邻的对应的相移区R，并对该相移区R有180度的相对相位差。该子分辨率辅助相位区R′被配置成当用光刻法形成光刻胶特征时，减轻不需要的边缘效应。使用该相移掩模形成LED的方法也被公开。

主权项

一种供有分辨率极限的光刻成像系统使用的相移掩模，包括：被做成该分辨率极限大小或该分辨率极限以上大小的相移区R的棋盘形阵列，相邻的相移区R有180度的相对相位差，该阵列有周界；和紧邻该周界的至少一部分布置的多个辅助相位区R′，每一辅助相位区R′被做成分辨率极限以下大小并相对于相邻的相移区R有180度的相对相移差。