[发明专利]通过SIP形成氧化钛间隙在审

专利信息
申请号: 201210125196.8 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN102942816A 公开(公告)日: 2013-02-27
发明(设计)人: 樊小武;石金贞;唐明仁;李东根;P·B·麦瑟史密斯 申请(专利权)人: 贝洱工艺公司;西北大学
主分类号: C09D7/12 分类号: C09D7/12;C09C1/36;C09C3/10;C08F292/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;韩蕾
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种制造含氧化钛的涂层组合物的方法,其包括使引发剂附着到预处理氧化钛,从而形成引发剂/预处理氧化钛复合体。所述预处理氧化钛包括多个预处理氧化钛颗粒,所述预处理氧化钛颗粒是使用至少一种金属氧化物预处理的氧化钛颗粒所述引发剂/预处理氧化钛复合体与可聚合的不饱和单体接触这样便在引发剂/预处理氧化钛颗粒上形成聚合包覆物,从而形成聚合物包覆的氧化钛颗粒。将所述聚合物包覆的氧化钛颗粒与液体组合物结合,以形成所述涂层组合物。
搜索关键词: 通过 sip 形成 氧化 间隙
【主权项】:
一种形成含氧化钛的涂层组合物的方法,所述方法包括:使引发剂附着到预处理氧化钛颗粒上,以形成引发剂/预处理氧化钛复合体,所述预处理氧化钛颗粒是使用至少一种金属氧化物预处理的氧化钛颗粒;使所述引发剂/预处理氧化钛复合体与可聚合的不饱和单体接触这样便在所述预处理氧化钛颗粒上形成聚合层,从而形成聚合物包覆的氧化钛颗粒;以及将所述聚合物包覆的氧化钛颗粒与液体组合物结合,以形成所述涂层组合物。
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