[发明专利]用于光生伏打组件的含氟聚合物涂敷的薄膜有效

专利信息
申请号: 201210129312.3 申请日: 2006-12-29
公开(公告)号: CN102700208A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: M·德伯加利斯;L·G·斯诺 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: B32B27/08 分类号: B32B27/08;B32B27/30;B32B27/36;H01L31/048
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 王伦伟;李进
地址: 美国特拉华*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用于光生伏打组件的含氟聚合物涂敷的薄膜。具体地,本发明提供了包括聚合物基底薄膜和在聚合物基底薄膜上的含氟聚合物涂层的含氟聚合物涂敷的薄膜。含氟聚合物涂层包括选自氟乙烯的均聚物和共聚物以及偏二氟乙烯的均聚物和共聚物聚合物的含氟聚合物,含氟聚合物混有包括选自羧酸、磺酸、氮杂环丙烷、酐、胺、异氰酸酯、三聚氰胺、环氧基、羟基、酐及其混合物中的官能团的相容性粘合剂聚合物。聚合物基底薄膜在其表面上包括与相容性粘合剂聚合物相互作用促进含氟聚合物涂层粘结到基底薄膜上的官能团。
搜索关键词: 用于 光生伏打 组件 聚合物 薄膜
【主权项】:
一种含氟聚合物涂敷的薄膜,包括:聚合物基底薄膜;和在所述聚合物基底薄膜上的含氟聚合物涂层,所述含氟聚合物涂层包括选自聚偏二氟乙烯均聚物和偏二氟乙烯的共聚物的含氟聚合物,含氟聚合物混有包括选自羧酸、磺酸、氮杂环丙烷、酐、胺、异氰酸酯、三聚氰胺、环氧基、羟基及其混合物中的官能团的相容性粘合剂聚合物;其中所述聚合物基底薄膜包括:在其表面上的与所述相容性粘合剂聚合物相互作用促进所述含氟聚合物涂层粘结到所述基底薄膜上的官能团;和在其表面上的提供与所述粘合剂相互作用的所述官能团以促进所述含氟聚合物涂层对所述基底薄膜的粘结的底漆层。
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