[发明专利]掩模对准装置及使用该装置的光刻设备有效
| 申请号： | 201210131099.X | 申请日： | 2012-05-02 |
| 公开（公告）号： | CN103383531A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 徐兵;周畅;陈跃飞;贾翔 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩模对准装置，包括：一照明系统，用于提供一光源照射第一标记与第二标记；一投影物镜，用于将第一标记成像；一第一支撑装置，用于承载所述第一标记，所述第一标记位于一掩模板上；一第二支撑装置，用于承载所述第二标记，所述第二标记位于一基准板上；一成像探测系统，用于探测所述第一标记的成像位置与所述第二标记位置的偏差；其特征在于，所述成像探测系统固定于所述第二支撑装置内，且所述第二标记位于所述成像探测系统的视场范围内，所述投影物镜与所述成像探测系统共用所述照明系统。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 使用 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种掩模对准装置，包括：一照明系统，用于提供一光源照射第一标记与第二标记；一投影物镜，用于将第一标记成像；一第一支撑装置，用于承载所述第一标记，所述第一标记位于一掩模板上；一第二支撑装置，用于承载所述第二标记，所述第二标记位于一基准板上；一成像探测系统，用于探测所述第一标记的成像位置与所述第二标记位置的偏差；其特征在于，所述成像探测系统固定于所述第二支撑装置内，且所述第二标记位于所述成像探测系统的视场范围内，所述投影物镜与所述成像探测系统共用所述照明系统。
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