[发明专利]GaN纳米柱反转结构的混合太阳能电池的制作方法有效

专利信息
申请号: 201210131229.X 申请日: 2012-04-29
公开(公告)号: CN102629633A 公开(公告)日: 2012-08-08
发明(设计)人: 冯倩;张璐;邢韬;李倩;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华;朱红星
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种GaN纳米柱反转结构混合太阳能电池的制作方法,主要解决现有太阳能电池效率低,成本高的问题。它包括:玻璃保护层(1)、氧化铟锡ITO导电层(2)、GaN缓冲层(3)、n-GaN纳米柱(4)、聚3己基噻吩P3HT(5)和聚二氧乙基噻吩聚对苯乙烯磺酸PEDOT:PSS(6)。其中,氧化铟锡ITO导电层(2)设置在玻璃保护层(1)上,两者构成氧化铟锡ITO透明导电玻璃;GaN缓冲层(3)外延在氧化铟锡ITO导电层(2)上;n-GaN纳米柱(4)外延在GaN缓冲层(3)上,其高度为600nm-700nm、间距为400nm-500nm;P3HT(5)设置在n-GaN纳米柱(4)上;PEDOT:PSS(6)设置在P3HT(5)上。本发明结构简单、成本低、光电转换效率高,可用于商用和民用发电系统。
搜索关键词: gan 纳米 反转 结构 混合 太阳能电池 制作方法
【主权项】:
一种GaN纳米柱反转结构的混合太阳能电池,包括:GaN缓冲层(3)、n‑GaN纳米柱(4)、聚3己基噻吩P3HT(5)和聚二氧乙基噻吩聚对苯乙烯磺酸PEDOT:PSS(6),其特征在于:GaN纳米柱(4)设置在GaN缓冲层(3)上;GaN缓冲层(3)的下方设有氧化铟锡ITO导电层(2);该ITO导电层(2)的下方设有玻璃保护层(1),两者共同构成氧化铟锡ITO导电玻璃。
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