[发明专利]应用于离子束抛光工艺的离子束确定性添加装置及离子束抛光系统有效
| 申请号： | 201210135948.9 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN102672550A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 戴一帆;李圣怡;廖文林;解旭辉;周林;袁征 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人： | 赵洪;杨斌 |
| 地址： | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安装方便，可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正光学镜面中高频误差。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 离子束 抛光 工艺 确定性 添加 装置 系统 | ||
【主权项】：
一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，其特征在于：所述离子束确定性添加装置包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，所述支撑架包括有固定所述靶材的靶材固定夹具，所述支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；所述支撑架底部装设有用于安装至所述离子束抛光系统的安装法兰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科学技术大学，未经中国人民解放军国防科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210135948.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
