[发明专利]等离子化学气相沉积机台异常监控方法及系统有效
| 申请号： | 201210137666.2 | 申请日： | 2012-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN103382552A | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 吴浩 | 申请（专利权）人： | 无锡华润上华科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/52 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 214028 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种等离子化学气相沉积机台异常监控方法，包括以下步骤：对腔体间的活动门阀进行监测；获取晶片掉落至活动门阀口的信息；发出控制指令暂停所述活动门阀闭合动作。上述等离子化学气相沉积机台异常监控方法中，通过对腔体间的活动门阀进行监测，实时监测晶片是否掉落至活动门阀口，一旦出现晶片掉落的情况，则发出控制指令暂停活动门阀的闭合动作，有效防止等离子化学气相沉积机台中因腔体间传送系统异常而造成的晶片破损。同时，还提供了一种等离子化学气相沉积机台异常监控系统。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 化学 沉积 机台 异常 监控 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种等离子化学气相沉积机台异常监控方法，其特征在于，包括以下步骤：对腔体间的活动门阀进行监测；获取晶片掉落至活动门阀口的信息；发出控制指令暂停所述活动门阀闭合动作。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
