[发明专利]计算全息多点瞬时定位多自由度成像光学系统光校技术有效

专利信息
申请号: 201210142495.2 申请日: 2012-05-09
公开(公告)号: CN102759796A 公开(公告)日: 2012-10-31
发明(设计)人: 于清华;孙胜利;段东;曲荣生;陈凡胜;李欣耀;肖金才;王宝勇;金钢;杨林;陆强 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G03H1/22
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种计算全息多点瞬时定位多自由度成像光学系统光校技术,它依据待装校成像光学系统各光学元件和机械基准的定位需要,设计全息图像,使光束经计算全息图像衍射成像,形成‘标记’像的集合,该‘标记’像对应待装校成像光学系统的光学元件和机械组部件的基准,‘标记’像空间相对位置对应待装校成像光学系统的光学元件和机械组部件的基准的空间相对位置,该‘标记’像的集合构成待装校光学系统的‘立体图’。成像光学系统装校过程中,将待装校成像光学系统的各光学元件和机械组部的基准与对应的‘标记’像对准,从而完成成像光学系统的粗调,使待装校成像光学系统进入干涉图阶段,之后,利用计算机辅助像差解耦技术完成精调。
搜索关键词: 计算 全息 多点 瞬时 定位 自由度 成像 光学系统 技术
【主权项】:
一种计算全息多点瞬时定位多自由度成像光学系统光校方法,包括装校光路的设计、搭建、光学系统的粗调和精调,其特征在于:所述的装校光路的设计分以下几步:1)借助待装校光学系统的结构模装图,明确待装校光学系统的结构特点,寻找一个角度,使得装校光路的光源可以同时看到待装校光学系统中所有或部分待装校的光学元件及机械零部件局部或全部;2)在装校的光学元件及机械零部件上,装校光路的光源可见的部位设计基准,该基准可以是点、空间曲线或者其他复杂空间图形等,在加工检测过程中,将该基准刻或者标示在光学元件和机械零部件上,基准的加工制作或标示的精度由待装校光学系统的粗调公差决定;3)依照2)中设计的基准,设计装校光路,装校光路包括光源和计算全息板,其中,计算全息板设计多个图案区域,每个图案区域具有不同的功能,分别对应待装校的光学元件及机械零部件的基准‘标记’像和光源定位,当光源入射到光源定位图案上,衍射沿原光路返回,与干涉仪中的参考光干涉,用以光源与计算全息板之间的定位,当光源入射到基准‘标记’像图案上,衍射成像,且与2)中设计的基准对应,成为其空间的‘标记’像,用以定位待装校光学元件及机械零件;所述装校光路的搭建方法为:装校光路的光源采用干涉仪光源,使干涉仪光源入射并覆盖计算全息板,调整干涉仪和计算全息板的位置,令入射至光源定位图案的光束衍射沿原光路返回,与干涉仪中的参考光干涉,当干涉图案0条纹,且入射到基准‘标记’像图案的光束衍射成‘标记’像时,装校光路调整完毕;所述的光学系统粗调为:待装校光路的搭建完毕后,将待装校光学的光学元件和机械零部件的基准与装校光路产生的‘标记’像对准,从而使待装校光学系统产生干涉图;所述的光学系统精调为,当待装校光学系统产生干涉图时,利用计算机辅助像差解耦技术,从干涉图中解调出待装校光学系统失调量,并进行调节,从而使得待装校光学系统到达预期像质,从而完成成像光学系统的装校。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210142495.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top