[发明专利]晶片封装体及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201210143672.9 申请日: 2012-05-09
公开(公告)号: CN102779809A 公开(公告)日: 2012-11-14
发明(设计)人: 刘建宏 申请(专利权)人: 精材科技股份有限公司
主分类号: H01L23/538 分类号: H01L23/538;H01L21/768;B81B7/00;B81C3/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 中国台湾桃园县中*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种晶片封装体及其形成方法,该晶片封装体包括:一第一基底;一第二基底,设置于该第一基底之上,其中该第二基底具有贯穿该第二基底之至少一开口,该至少一开口于该第二基底之中划分出彼此电性绝缘的多个导电区;一第一绝缘层,设置于该第一基底之一侧边之上,且填充于该第二基底之该至少一开口之中;一承载基底,设置于该第二基底之上;一第二绝缘层,设置于该承载基底之一表面及一侧壁之上;以及一导电层,设置于该承载基底上之该第二绝缘层之上,且电性接触其中一所述导电区。本发明可有效缩小多晶片封装结构的体积,且节省制作成本。
搜索关键词: 晶片 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
一种晶片封装体,其特征在于,包括:一第一基底;一第二基底,设置于该第一基底之上,其中该第二基底具有贯穿该第二基底的至少一开口,该至少一开口于该第二基底之中划分出彼此电性绝缘的多个导电区;一第一绝缘层,设置于该第一基底的一侧边之上,且填充于该第二基底的该至少一开口之中;一承载基底,设置于该第二基底之上;一第二绝缘层,设置于该承载基底的一表面及一侧壁之上;以及一导电层,设置于该承载基底上的该第二绝缘层之上,且电性接触所述导电区中的一导电区。
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