[发明专利]一种无掩模数字投影光刻的图形拼接方法无效
| 申请号： | 201210145576.8 | 申请日： | 2012-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102722085A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 朱江平;胡松;陈铭勇;唐燕;何渝 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06T7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种无掩模数字投影光刻的图形拼接方法，包括步骤：步骤S1：对待刻蚀图形进行分割，得到分割后的多帧子图形，且每帧子图形尺寸相同；步骤S2：设置模板尺寸与每帧子图形尺寸相同；步骤S3：将分割后的每帧子图形与所述模板相乘，得到子图形的边界拼接区域，用灰度调制模板调制边界拼接区域的灰度值，获得调制后的子图形；步骤S4：对调制后的子图形通过数字微镜显示逐帧曝光，实现数字微镜显示的调制后的子图形向基片复制转移的拼接。本发明能较好地解决大面积图形刻写时存在的拼接问题，改善了数字投影光刻图形刻蚀的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 无掩模 数字 投影 光刻 图形 拼接 方法 | ||
【主权项】：
一种无掩模数字投影光刻的图形拼接方法，其特征在于：所述方法包括步骤：步骤S1：对待刻蚀图形进行分割，得到分割后的多帧子图形，且每帧子图形尺寸相同；步骤S2：设置模板尺寸与每帧子图形尺寸相同；步骤S3：将分割后的每帧子图形与所述模板相乘，边界拼接区域的灰度值受到调制，不需要拼接的区域其灰度值保持原样，以此用灰度调制模板调制边界拼接区域的灰度值，获得调制后的子图形；步骤S4：对调制后的子图形通过数字微镜显示逐帧曝光，实现数字微镜显示的调制后的子图形向基片复制转移的拼接。
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