[发明专利]包括衬底台的光刻设备有效
| 申请号： | 201210149034.8 | 申请日： | 2012-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN102799071A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 汉斯·巴特勒;J·范埃基科;S·A·J·霍尔;J·P·M·B·沃麦尤伦;黄仰山 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 光刻设备包括配置成调节辐射束的照射系统和构造用以支撑图案形成装置的支撑结构，图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束。光刻设备还包括构造成保持衬底的衬底台；定位器，构造成定位衬底台；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；衬底表面致动器，布置成接合衬底表面的面对投影系统的部分，和位置控制器，配置成控制衬底台的位置，位置控制器布置成驱动定位器和衬底表面致动器。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 衬底 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造用以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，构造成保持衬底；定位器，构造成定位衬底台；投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，衬底表面致动器，布置成接合衬底表面的面对投影系统的部分以施加力到衬底表面的所述部分上，和位置控制器，配置成控制衬底台的位置，位置控制器可操作地连接至定位器和衬底表面致动器以驱动定位器和衬底表面致动器。
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