[发明专利]使用透明的接触元件进行材料加工的装置和方法无效

专利信息
申请号: 201210153645.X 申请日: 2007-09-11
公开(公告)号: CN102697599A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 马克·比朔夫;格雷戈尔·施托布拉瓦 申请(专利权)人: 卡尔蔡司医疗技术股份公司
主分类号: A61F9/009 分类号: A61F9/009;A61F9/01;B23K26/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 蔡石蒙;车文
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明描述了对装置进行准备的方法及材料加工装置,以通过在物体内或之上产生光学穿透来加工材料。装置具有可变、三维起作用的焦点调节设备,以把脉冲的加工激光辐射聚焦到物体内或之上的不同位置。装置上固定有对加工激光辐射透明的、物体上的接触元件,其在放到物体上的侧具有已知形状的弯曲接触面。在加工物体之前,借助激光辐射照射到接触面上确定接触面关于焦点调节设备的位置,即测量激光辐射借助焦点调节设备聚焦到接触面上或附近,且在测量面上调整测量激光辐射的焦点位置,测量面与接触面的期望位置相交,从交点的位置和接触面的已知形状来确定接触面的位置。
搜索关键词: 使用 透明 接触 元件 进行 材料 加工 装置 方法
【主权项】:
用于对装置(1)进行准备的方法,用于通过在物体(18)内或在物体(18)上产生光学穿透来进行材料加工,所述装置具有可变的、三维起作用的焦点调节设备(6、11),用于把脉冲的加工激光辐射(4)聚焦到在所述物体(18)内或上的不同位置上,其中‑在所述装置上固定有对所述加工激光辐射(4)透明的、待放到所述物体(18)上的接触元件(19),所述接触元件在其放到所述物体(2)上的侧上具有接触面(20),并具有与所述接触面相对的用于所述加工激光辐射的进入面,所述接触面和所述进入面分别具有已知的形状,‑在对所述物体(18)进行加工之前,所述进入面或所述接触面(20、30)关于所述焦点调节设备(6、11)的位置借助测量激光辐射(4)照射到所述进入面或所述接触面上来确定,方法是通过:测量激光辐射(4)借助所述可变的焦点调节设备(6、11)聚焦到所述接触面或所述进入面(20、30)上或所述接触面或所述进入面(20、30)附近,其中,聚焦的所述测量激光辐射(4)的能量密度太低而不能产生光学穿透,以及所述测量激光辐射(4)的焦点在测量面(23)上进行调整,所述测量面(23)与所述接触面或所述进入面(20、30)的期望位置相交,其特征在于,a)从所述测量激光辐射(4)的所述焦点回散射或反射的辐射被探测;b)从所述被探测的辐射和所述可变的焦点调节设备(6、11)的所属设定,来测定所述测量面(23)和所述接触面或所述进入面(20、30)之间交点(26)的位置;c)从所述交点(26)的所述位置和所述接触面或所述进入面(20、30)的形状来确定所述接触面或所述进入面的位置。
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