[发明专利]一种场效应晶体管阈值电压提取方法有效

专利信息
申请号: 201210153935.4 申请日: 2012-05-17
公开(公告)号: CN102707227A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 何进;马晨月;陈文新;张立宁 申请(专利权)人: 深港产学研基地
主分类号: G01R31/30 分类号: G01R31/30
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 代理人: 满群
地址: 518057 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种尤其适用于纳米FinFET场效应晶体管的阈值电压提取方法,包括:选择三点不同漏-源电压Vds,将栅-源电压Vgs从-0.5伏扫描到+1.5伏,测试出场效应晶体管的转移电流特性曲线Ids-Vgs,确定器件正常工作;选择三点不同Vgs,将Vds从0伏扫描到+1.5伏,测试出场效应晶体管的输出电流特性曲线Ids-Vds;将漏-源输出电流Ids对Vds求导,得到输出电导特性曲线Gout-Vds,再在线性区内选二点获取对应直线的截距和斜率;提取场效应晶体管的阈值电压Vth,这种方法实现简单,在低Vds下对偏置波动不敏感,能抑制小尺寸器件引起的短沟效应和超薄体效应。
搜索关键词: 一种 场效应 晶体管 阈值 电压 提取 方法
【主权项】:
1.一种场效应晶体管阈值电压提取方法,其特征在于,包括以下步骤:101)选择三点不同漏-源电压Vds,将栅-源电压Vgs从-0.5伏扫描到+1.5伏,测试出FinFET场效应晶体管的转移电流特性曲线Ids-Vgs,确定器件正常工作;102)选择三点不同栅-源电压Vgs,将Vds从0伏扫描到+1.5伏,测试出FinFET场效应晶体管的输出电流特性曲线Ids-Vds;将漏-源输出电流Ids对Vds求导,得到输出电导特性曲线Gout-Vds;当Vds较小时,Gout与Vds呈线性关系;利用线性拟合,在线性区内得到Vgs=Vgs1条件下直线的截距A1和斜率B1,和Vgs=Vgs2条件下直线的截距A2和斜率B2,其中:Vgs1≠Vgs2;103)利用公式III和公式VI计算FinFET场效应晶体管的阈值电压Vth,并画出Vth-Vds的关系曲线;其中:ηA和ηB是:输出电导特性曲线Gout-Vds的线性区外推线的截距ηA和输出电导特性曲线Gout-Vds的线性区外推线的斜率ηB;公式III是:ηA=A1|Vgs1A2|Vgs2=1+θ(Vgs2-Vth)1+θ(Vgs1-Vth)·(Vgs1-Vth)(Vgs2-Vth);]]>公式VI是:ηB=B1B2=WCoxμeff1/LWCoxμeff2/L=1+θ(Vgs2-Vth)1+θ(Vgs1-Vth).]]>
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