[发明专利]一种运动磁场辅助增强化学气相沉积方法及装置有效
申请号: | 201210158815.3 | 申请日: | 2012-05-21 |
公开(公告)号: | CN102677019A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 余志明;魏秋平 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种运动磁场辅助增强化学气相沉积方法,是在化学气相沉积装置中的沉积区域设有周期性旋转运动磁场,所述沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉;本发明通过运动磁场约束气相中带电粒子的运动,强化带电粒子与沉积反应气体分子之间的相互作用,提高气体的反应裂解速率,降低沉积温度,提高材料的生长速率与品质。本发明可以有效提高气体的反应速率,降低材料的沉积温度,提高材料的生长速率与品质,克服了现有化学气相沉积制备薄膜材料时存在混合气体利用率过低、沉积速率太慢和沉积温度过高等问题;适于规模化应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 运动 磁场 辅助 增强 化学 沉积 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种运动磁场辅助增强化学气相沉积方法,是在化学气相沉积装置中的沉积区域设有周期性旋转运动磁场,所述沉积区域中磁场强度为100高斯至30特斯拉。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的