[发明专利]高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件方法产品设备有效

专利信息
申请号: 201210161188.9 申请日: 2012-05-18
公开(公告)号: CN103423896A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 徐秀萍 申请(专利权)人: 徐秀萍
主分类号: F24J2/46 分类号: F24J2/46;F24J2/50;C03C17/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 200050 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。
搜索关键词: 发射 率抗空晒全 玻璃 空集 利用 元件 方法 产品 设备
【主权项】:
高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。
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