[发明专利]高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件方法产品设备有效
申请号: | 201210161188.9 | 申请日: | 2012-05-18 |
公开(公告)号: | CN103423896A | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 徐秀萍 | 申请(专利权)人: | 徐秀萍 |
主分类号: | F24J2/46 | 分类号: | F24J2/46;F24J2/50;C03C17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200050 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。 | ||
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【主权项】:
高发射率抗空晒全玻璃真空集热利用元件的制造方法:通过提高全玻璃真空集热利用元件的发射率来降低空晒温度,具体包括:1)对全玻璃真空集热管的内玻璃管真空溅射发射率高于0.35的吸收膜;2)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面不镀膜;3)对全玻璃真空集热管的内玻璃管外表面划分出迎光面和非迎光面,对全部或者部分非迎光面真空溅射发射率高于0.35的膜层。
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