[发明专利]一种规模化连续制备二维纳米薄膜的装置

摘要

本发明公开了一种规模化连续制备二维纳米薄膜的装置，包括进料腔室、处理腔室、第一平衡腔室、第一薄膜制备腔室、第二平衡腔室、第二薄膜制备腔室、第三平衡腔室、化学气相沉积腔室和出料腔室等；各腔室之间设有阀门，样品通过传送装置实现在各腔室之间的连续传输；薄膜制备腔室设有物理气相沉积系统；化学气相沉积系统设有加热装装置和气体连接口等；整套装置设有自动化控制系统以控制腔室之间的阀门的开关、样品的传输、气体流量的控制、抽真空等。利用本设备，可以规模化连续制备石墨烯、金属硫族化合物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜。本设备具有连续成膜的特征，可以在不同腔室实现规模化连续制备二维纳米薄膜的所需的衬底/催化层以及样品预处理等，适合于二维纳米薄膜的产业化制备。

主权项

一种规模化连续制备二维纳米薄膜的装置，其特征在于依次设有进料腔室(1)、处理腔室(2)、第一平衡腔室(3)、第一薄膜制备腔室(4)、第二平衡腔室(5)、第二薄膜制备腔室(6)、第三平衡腔室(7)、化学气相沉积腔室(8)和出料腔室(9)，其中：进料腔室(1)设有与大气相通的阀门(10)，进料腔室(1)与处理腔室(2)之间设有阀门(11)，处理腔室(2)与第一平衡腔室(3)之间设有阀门(12)，第一平衡腔室(3)与第一薄膜制备腔室(4)之间设有阀门(13)，第一薄膜制备腔室(4)与第二平衡腔室(5)之间设有阀门(14)，第二平衡腔室(5)与第二薄膜制备腔室(6)之间设有阀门(15)，第二薄膜制备腔室(6)与第三平衡腔室(7)之间设有阀门(16)，第三平衡腔室(7)与化学气相沉积腔室(8)之间设有阀门(17)，化学气相沉积腔室(8)与出料腔室(9)之间设有阀门(18)，出料腔室(9)设有与大气相通的阀门(19)；进料腔室(1)、处理腔室(2)、第一平衡腔室(3)、第一薄膜制备腔室(4)、第二平衡腔室(5)、第二薄膜制备腔室(6)、第三平衡腔室(7)、化学气相沉积腔室(8)和出料腔室(9)的腔室内均设有样品传送装置；进料腔室(1)、处理腔室(2)、第一平衡腔室(3)、第一薄膜制备腔室(4)、第二平衡腔室(5)、第二薄膜制备腔室(6)、第三平衡腔室(7)、化学气相沉积腔室(8)和出料腔室(9) 中的至少一个的腔室设有抽真空装置；第一薄膜制备腔室(4)和第二薄膜制备腔室(6)的至少一个的腔室内设有物理气相沉积系统； 进料腔室(1)、处理腔室(2)、第一平衡腔室(3)、第一薄膜制备腔室(4)、第二平衡腔室(5)、第二薄膜制备腔室(6)、第三平衡腔室(7)、化学气相沉积腔室(8)和出料腔室(9)中的至少一个腔室设有一个或二个以上的气体连接口；化学气相沉积腔室(8)的腔室内设有加热装置。