[发明专利]V2O3复合限流元件的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210163553.X 申请日: 2012-05-24
公开(公告)号: CN102682939A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 杨敬义 申请(专利权)人: 成都顺康电子有限责任公司
主分类号: H01C7/02 分类号: H01C7/02;C04B35/495;C04B35/622
代理公司: 成都博通专利事务所 51208 代理人: 谢焕武
地址: 611731 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种V2O3复合限流元件的制备方法。该制备方法是按照以下步骤制备:a、以V2O3陶瓷粉末为基材,在其中添加聚四氟乙烯乳液,经混和器进行干法混合,造粒;b、直接将造粒后的粉料加入模具,放入压机预压成型制成毛坯;c、然后将毛坯放入烧结炉内烧结;形成复合限流元件芯片;d、冷却后可利用电镀或溅射方式在芯片两端形成金属电极。本发明的V2O3复合限流元件的制备方法解决了己有PTC陶瓷限流元件存在不易低阻化,易分层;V2O3限流元件存在易碎裂,寿命短,以及高分子PTC元件存在恢复特性差,寿命短等问题。利用本制造方法能制备出各种规格的超小型,大电流的限流元件。
搜索关键词: sub 复合 限流 元件 制备 方法
【主权项】:
一种V2O3复合限流元件的制备方法,其特征是按照以下步骤制备: a 、以V2O3陶瓷粉末为基材,在其中添加聚四氟乙烯乳液,经混和器进行干法混合,造粒;b 、直接将造粒后的粉料加入模具,放入压机预压成型制成毛坯;c 、然后将毛坯放入烧结炉内烧结;形成复合限流元件芯片;d 、冷却后可利用电镀或溅射方式在芯片两端形成金属电极。
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