[发明专利]一种双面背接触太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210166785.0 申请日: 2012-05-27
公开(公告)号: CN102709389A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 王栩生;章灵军 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 陶海锋;陆金星
地址: 215129 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种双面背接触太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:(1)开孔;(2)清洗,在硅片的正面和背面进行制绒;(3)在硅片的正面和孔内设置第一掺杂剂,在硅片背面的孔的周围区域设置第一掺杂剂;第一掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相反;(4)在硅片背面的非孔周围区域设置第二掺杂剂;第二掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相同;(5)在硅片的正面和背面均生长阻挡层;(6)将上述硅片在800~1000℃下进行退火,扩散制结;(7)刻蚀周边结;(8)清洗、去除阻挡层;(9)在硅片的正背面设置钝化减反射膜;(10)在孔内设置孔金属电极;印刷,烧结。本发明采用设置掺杂剂的方法,在硅片的两面设置不同类型的掺杂剂,配合阻挡层,实现了硼磷的共扩散,大大简化了工艺流程,降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 双面 接触 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种双面背接触太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 在硅片上开孔;(2) 清洗硅片表面,去除损伤层,在硅片的正面和背面进行制绒;(3) 在硅片的正面和孔内设置第一掺杂剂,在硅片背面的孔的周围区域设置第一掺杂剂;所述第一掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相反;(4) 在硅片背面的非孔周围区域设置第二掺杂剂;所述第二掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相同;(5) 在硅片的正面和背面均生长阻挡层;(6) 将步骤(5)得到的硅片在800~1000℃下进行退火,扩散制结;(7) 刻蚀周边结;(8) 清洗硅片表面并去除阻挡层;(9) 在硅片的正面和背面设置钝化减反射膜;(10) 在孔内设置孔金属电极;双面印刷金属电极,烧结,即可得到双面背接触太阳能电池。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司,未经苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210166785.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top