[发明专利]一种双面背接触太阳能电池的制备方法有效
申请号: | 201210166785.0 | 申请日: | 2012-05-27 |
公开(公告)号: | CN102709389A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 王栩生;章灵军 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯(中国)投资有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋;陆金星 |
地址: | 215129 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面背接触太阳能电池的制备方法,包括如下步骤:(1)开孔;(2)清洗,在硅片的正面和背面进行制绒;(3)在硅片的正面和孔内设置第一掺杂剂,在硅片背面的孔的周围区域设置第一掺杂剂;第一掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相反;(4)在硅片背面的非孔周围区域设置第二掺杂剂;第二掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相同;(5)在硅片的正面和背面均生长阻挡层;(6)将上述硅片在800~1000℃下进行退火,扩散制结;(7)刻蚀周边结;(8)清洗、去除阻挡层;(9)在硅片的正背面设置钝化减反射膜;(10)在孔内设置孔金属电极;印刷,烧结。本发明采用设置掺杂剂的方法,在硅片的两面设置不同类型的掺杂剂,配合阻挡层,实现了硼磷的共扩散,大大简化了工艺流程,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 接触 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种双面背接触太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1) 在硅片上开孔;(2) 清洗硅片表面,去除损伤层,在硅片的正面和背面进行制绒;(3) 在硅片的正面和孔内设置第一掺杂剂,在硅片背面的孔的周围区域设置第一掺杂剂;所述第一掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相反;(4) 在硅片背面的非孔周围区域设置第二掺杂剂;所述第二掺杂剂的掺杂类型与硅片的类型相同;(5) 在硅片的正面和背面均生长阻挡层;(6) 将步骤(5)得到的硅片在800~1000℃下进行退火,扩散制结;(7) 刻蚀周边结;(8) 清洗硅片表面并去除阻挡层;(9) 在硅片的正面和背面设置钝化减反射膜;(10) 在孔内设置孔金属电极;双面印刷金属电极,烧结,即可得到双面背接触太阳能电池。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的