[发明专利]一种太阳电池用铜铟硒硫薄膜的制备方法无效
申请号: | 201210166794.X | 申请日: | 2012-05-28 |
公开(公告)号: | CN102683497A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 孙玉绣;杜桂香 | 申请(专利权)人: | 天津师范大学 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;C03C17/22;C03C17/36 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱红星 |
地址: | 300387 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种非真空的湿化学法制备CuIn(Se,S)2薄膜的方法,包括如下步骤:(a)前躯体墨水制备(b)前躯体薄膜制备(c)干燥(d)退火处理。本发明所提供的铜铟硫薄膜制备方法,与传统的高真空气相法相比,其工艺简单,成本低,可重复性强,易实现大规模生产,原料物化性质稳定安全性好,原料利用率高,可促进铜铟硒硫薄膜太阳能电池产业化快速发展。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳电池 用铜铟硒硫 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种太阳电池用铜铟硒硫薄膜的制备方法,其特征在于按如下的步骤进行:a)前躯体墨水制备:将含Cu、含In、含S的化合物,按照Cu:In:S摩尔比为4‑4.8:3:9‑15,溶入适量吡啶溶剂中,加热至65‑80 ℃,搅拌8‑15 min,得到蓝黑色前躯体墨水;b)前躯体薄膜制备:将步骤a中所述墨水利用旋涂的方法,在钠钙玻璃Mo衬底上涂前躯体薄膜,反复旋涂,可制备出500‑2000 nm厚度的薄膜;c)干燥:将步骤b所制备的前躯体薄膜,在80 ℃下干燥 1‑5 min,然后再接着采用1000‑1500 r/min进行旋涂,干燥处理;d)退火处理:将步骤c干燥后的前躯体薄膜,进行硒化退火处理形成铜铟硒硫薄膜。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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