[发明专利]一种阵列基板、其制造方法、显示面板及显示装置有效
申请号: | 201210167777.8 | 申请日: | 2012-05-25 |
公开(公告)号: | CN102709328A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 杨玉清;朴承翊;李炳天;蒋冬华 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L27/02;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 黄灿;赵爱军 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种阵列基板、其制造方法、显示面板及显示装置,属于液晶显示领域。所述制造方法包括:在形成有有源层的基板上形成刻蚀阻挡层,采用第一掩膜版进行光刻后,刻蚀出源电极接触孔和漏电极接触孔;在形成有刻蚀阻挡层的基板上形成源电极、漏电极和数据线,源电极通过源电极接触孔与有源层连接,漏电极通过漏电极接触孔与有源层连接;在形成有源电极、漏电极和数据线的基板上形成钝化层,采用所述第一掩膜版进行光刻后,刻蚀出像素电极接触孔;在形成有钝化层的基板上形成像素电极,所述像素电极通过像素电极接触孔与漏电极连接。根据本发明,能够降低阵列基板的制造成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 阵列 制造 方法 显示 面板 显示装置 | ||
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,包括:形成在形成有有源层的基板上的具有源电极接触孔和漏电极接触孔的刻蚀阻挡层;形成在形成有刻蚀阻挡层的基板上的源电极、漏电极和数据线,源电极通过源电极接触孔与有源层连接,漏电极通过漏电极接触孔与有源层连接;形成在形成有源电极、漏电极和数据线的基板上的具有像素电极接触孔的钝化层,所述像素电极接触孔在基板上的正投影与所述漏电极接触孔在基板上的正投影重合;形成在形成有钝化层的基板上的像素电极,所述像素电极通过像素电极接触孔与漏电极连接。
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