[发明专利]一种基于N型硅片倾斜金属接触结构的异质结太阳电池无效

专利信息
申请号: 201210171008.5 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102709340A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 聂金艳;涂宏波;王学林;梅晓东 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/077
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314416 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种基于N型硅片倾斜金属接触结构的异质结太阳电池。其包括N型单晶硅基体、正电极、负电极、透明导电薄膜以及在N型单晶硅基体正面和背面制备形成的若干膜层;在N型单晶硅基体背面制备形成的膜层包括N+重掺层,形成N+/N高低结;N型单晶硅基体正面和背面的最外层均制备形成一层透明导电薄膜;在N型单晶硅基体正面设有凹槽,电池正电极设置于凹槽内;电池负电极设置于N型单晶硅基体背面。本发明不会出现常规P型晶硅和非晶硅薄膜的晶硅构成的异质结太阳电池的大幅光衰现象,光谱响应更好,且厚度大大减薄;栅线遮光面积由常规丝印方式的6%降低至1%,提高太阳电池的转化效率;可采用低温生产工艺从而降低生产成本。
搜索关键词: 一种 基于 硅片 倾斜 金属 接触 结构 异质结 太阳电池
【主权项】:
1.一种基于N型硅片倾斜金属接触结构的异质结太阳电池,包括N型单晶硅基体(7)、电池正电极(3)、电池负电极(9)、透明导电薄膜TCO(4)以及在所述N型单晶硅基体(7)正面和背面制备形成的若干膜层;其特征在于:所述的在N型单晶硅基体(7)背面制备形成的膜层包括N+重掺层(8),形成N+/N高低结;所述N型单晶硅基体(7)正面和背面的最外层均制备形成一层透明导电薄膜TCO(4);所述在N型单晶硅基体(7)正面设有凹槽(1),所述的电池正电极(3)设置于凹槽(1)内;所述的电池负电极(9)设置于所述N型单晶硅基体(7)背面。
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