[发明专利]用于耳廓再造手术的耳支架定位装置无效

专利信息
申请号: 201210176861.6 申请日: 2012-05-31
公开(公告)号: CN102727342A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 王韶亮;赵映兰;石小花;潘正英;樊东力 申请(专利权)人: 中国人民解放军第三军医大学第二附属医院
主分类号: A61F11/00 分类号: A61F11/00
代理公司: 北京元本知识产权代理事务所 11308 代理人: 秦力军
地址: 400037 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明公开了一种用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,包括头圈、上端连接于头圈前侧正中的参考条、两根上端与头圈连接的耳定位条和一一对应连接于耳定位条上的对比测量条,所述两根耳定位条竖直设置于参考条两侧,所述头圈、耳定位条和对比测量条上均设有长度刻度,使用时,将头圈戴在患者头部,使参考条与面部中线重合,调节两根耳定位条对称于参考条,其中一根耳定位条位于正常耳部位,通过对比测量条测出正常耳的耳轮脚至眉心的距离、耳屏至外眼角的距离以及耳垂至鼻翼外侧的距离,通过手术侧的对比测量条及上述三个距离数据来定位耳支架,同时,还可通过对比测量尺测量耳廓高度,从而使耳支架与正常耳的前翻角度一致,使其与正常耳对称。
搜索关键词: 用于 耳廓 再造 手术 支架 定位 装置
【主权项】:
一种用于耳廓再造手术的耳支架定位装置,其特征在于:包括头圈(1)、上端连接于头圈(1)前侧正中的参考条(2)、两根上端与头圈(1)连接的耳定位条(3)和一一对应连接于耳定位条(3)上的对比测量条(4),所述两根耳定位条(3)竖直设置于参考条(2)两侧,所述头圈(1)、参考条(2)、耳定位条(3)和对比测量条(4)上均设有长度刻度。
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