[发明专利]发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210185678.2 申请日: 2012-06-07
公开(公告)号: CN103474532A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 朱钧;张淏酥;朱振东;李群庆;金国藩;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/22
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100084 北京市海淀区清*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,该基底具有一外延生长面;在基底的外延生长面依次外延生长一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层;在所述第二半导体层远离基底的表面设置一第一光学对称层;在所述第一光学对称层远离基底的表面设置一金属等离子体产生层;在所述金属等离子体产生层远离基底的表面形成一第二光学对称层;形成一第一电极与所述第一半导体层电连接;以及,形成一第二电极与所述第二半导体层电连接。
搜索关键词: 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
一种发光二极管的制备方法,其包括以下步骤:提供一基底,该基底具有一外延生长面;在基底的外延生长面依次外延生长一第一半导体层、一活性层以及一第二半导体层;在所述第二半导体层远离基底的表面设置一第一光学对称层;在所述第一光学对称层远离基底的表面设置一金属等离子体产生层;在所述金属等离子体产生层远离基底的表面形成一第二光学对称层;形成一第一电极与所述第一半导体层电连接;以及形成一第二电极与所述第二半导体层电连接。
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