[发明专利]用于局部区域导航的高精确度射束放置有效
申请号: | 201210185985.0 | 申请日: | 2012-06-07 |
公开(公告)号: | CN102820238B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | R.L.瓦肖尔;R.J.杨;C.吕;P.D.卡尔森 | 申请(专利权)人: | FEI公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 马永利,李家麟 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于局部区域导航的高精确度射束放置。描述了在半导体芯片制造领域中用于局部区域导航的高精确度射束放置的改进的方法。本发明的优选实施例还可以被用于迅速导航到存储器阵列或类似结构中的一个单个位单元,以便例如表征或校正该单独位单元中的缺陷。使用高分辨率扫描来(沿着X轴和Y轴中的任一个)扫描阵列的一个边缘上的单元“带”以定位包含期望单元的行,之后是沿着所定位的行(在剩下的方向上)的类似高速扫描直到到达期望的单元位置为止。这允许使用图案识别工具来自动对导航到期望单元所必需的单元“计数”,而不用花费对整个阵列成像所需的大量时间。 | ||
搜索关键词: | 用于 局部 区域 导航 精确度 放置 | ||
【主权项】:
一种用于到样本表面上的单元阵列内的具有已知单元地址X、Y的感兴趣特征的高精确度射束放置和导航的方法,包括:将样本加载到粒子束系统中;导航到包含感兴趣特征的阵列的部分;用带电粒子束扫描含有所述感兴趣特征的所述样本的表面,由此获得具有大于所述阵列中的单元的最大特征尺度的图像像素尺寸的所述阵列的第一图像;在样本表面上在所估计的感兴趣特征的位置附近的位置处形成至少一个基准;其特征在于:用所述带电粒子束沿着所述阵列的边缘扫描边缘带,由此获得边缘带图像,所述边缘带图像具有足够高的分辨率使得像素尺寸小于该阵列中的单元的最小重复尺度的一半,并且所述边缘带图像在长度上为至少X个单元并且显著小于第一图像中的视场;分析图像数据来沿着该阵列的边缘自动计数X个单元以便确定包含感兴趣特征的期望行的位置;用所述带电粒子束沿着所述阵列的期望的行扫描行带,由此获得沿着所述期望的行的行带图像,所述行带图像具有足够高的分辨率使得像素尺寸小于该阵列中的单元的最小重复尺度的一半,并且所述行带图像在长度上为至少Y个单元并且显著小于第一图像中的视场,并且所述行带图像包括至少一个基准和感兴趣特征;分析图像数据来沿着所述期望行自动计数Y个单元以便确定包含感兴趣特征的单元地址X、Y的位置;以及确定至少一个基准和包含感兴趣特征的单元地址X、Y的位置之间的偏移。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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