[发明专利]少层数MoS2/石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210187858.4 申请日: 2012-06-08
公开(公告)号: CN102683648A 公开(公告)日: 2012-09-19
发明(设计)人: 陈卫祥;王臻;黄国创;马琳 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01M4/1393 分类号: H01M4/1393
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及少层数MoS2/石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法,其步骤是:将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,搅拌下先加入八烷基三甲基溴化铵阳离子表面活性剂,然后加入硫代钼酸铵并滴加水合肼,于95℃回流反应,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,离心收集固体产物,去离子洗涤,干燥,在氮气/氢气混合气氛中热处理,得到少层数(2-4层)MoS2与石墨烯的复合纳米材料,将少层数MoS2与石墨烯复合纳米材料与乙炔黑及聚偏氟乙烯调成糊状物,涂到铜箔上滚压。本发明方法工艺简单,不消耗有机溶剂。以少层数MoS2/石墨烯复合材料为电化学贮锂复合电极,具有高电化学贮锂比容量,优异的循环性能和好的高倍率充放电特性。
搜索关键词: 层数 mos sub 石墨 电化学 复合 电极 制备 方法
【主权项】:
少层数MoS2/石墨烯电化学贮锂复合电极的制备方法,该复合电极的电化学贮锂活性物质为少层数MoS2与石墨烯复合纳米材料,少层数MoS2的平均层数为2‑4层,复合电极各组分的质量百分比含量为:少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料80‑85%,乙炔黑5‑10%,聚偏氟乙烯10%,其中少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料中少层数MoS2与石墨烯的物质量之比为1:3,其制备包括以下步骤:(1)将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,再加入八烷基三甲基溴化铵阳离子表面活性剂,并充分搅拌,八烷基三甲基溴化铵浓度为0.02 M,氧化石墨烯的含量为26.9‑80.7 mmol/L;(2)将硫代钼酸铵加入到步骤(1)得到的混合体系中,硫代钼酸铵与氧化石墨烯的物质量之比在1:1‑1:3,充分搅拌,在搅拌下向其中慢慢滴加质量百分比浓度为85%的水合肼,滴加水合肼体积为X,X/mL=Y•Z/mmol, Y=1.24‑2.79, Z代表硫代钼酸铵物质的量与氧化石墨烯物质的量之和,,连续搅拌并加热到95℃,在不断搅拌和回流条件下反应5‑8 h,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,通过离心分离收集固体产物,并用去离子充分洗涤,然后在100℃真空干燥;(3)将所得到的固体产物在氮气/氢气混合气氛中在800℃下热处理2h,混合气体中氢气的体积比为10%,得到少层数MoS2与石墨烯的复合纳米材料,少层数MoS2的平均层数为2‑4层;(4)将上述制备的少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料作为电极的电化学贮锂活性物质,与乙炔黑及质量浓度5%的聚偏氟乙烯的N‑甲基吡咯烷酮溶液在搅拌下充分混合调成均匀的糊状物,各组分质量百分比为:少层数MoS2/石墨烯复合纳米材料80‑85%,乙炔黑5‑10%,聚偏氟乙烯10%,将该糊状物均匀地涂到作为集流体的铜箔上,真空干燥,滚压得到复合电极。
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