[发明专利]一种单层MoS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法有效
申请号: | 201210187882.8 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN102701192A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 陈卫祥;王臻;黄国创;马琳 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04;C01G39/06;B82Y30/00 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 韩介梅 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种单层MoS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法,该复合材料由单层MoS2与石墨烯复合构成,单层MoS2与石墨烯之间物质量之比为1∶0.5-1∶4,其制备方法是先将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,然后加入阳离子表面活性剂,充分搅拌后再加入硫代钼酸铵,并向上述混合体系中慢慢滴加水合肼,连续搅拌并加热到95℃,在回流下反应,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,离心分离收集固体产物,去离子洗涤,真空干燥,再将所得固体产物在氮气/氢气混合气氛中热处理。本发明方法具有工艺简单,易于工业化扩大应用的特点,可以大规模制备单层MoS2与石墨烯复合纳米材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 单层 mos sub 石墨 复合 纳米 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种单层MoS2与石墨烯复合纳米材料的制备方法,该复合纳米材料是由单层MoS2与石墨烯复合构成,单层MoS2与石墨烯之间的物质量之比为 1:0.5‑1:4,其制备步骤如下:(1) 将氧化石墨烯超声分散在去离子水中,然后加入阳离子表面活性剂,并充分搅拌,阳离子表面活性剂浓度为0.01‑0.05 M, 氧化石墨烯的含量为26.9‑60.5 mmol/L; (2) 将硫代钼酸铵加入到步骤(1)的混合体系中,充分搅拌,硫代钼酸铵与氧化石墨烯的物质量之比在1:0.5‑1:4,在搅拌下向其中慢慢滴加质量百分比浓度为85%的水合肼,滴加水合肼体积为X,X/mL=Y•Z/mmol,Y=1.24‑3.74 , Z代表硫代钼酸铵物质的量与氧化石墨烯物质的量之和,连续搅拌并加热到95℃,在不断搅拌和回流条件下反应5‑9 h,使硫代钼酸铵和氧化石墨烯同时分别还原成MoS2和石墨烯,通过离心分离收集固体产物,并用去离子充分洗涤,然后在100℃真空干燥;(3)将所得到的固体产物在氮气/氢气混合气氛中在800℃下热处理2h,混合气体中氢气的体积比为10%,得到单层MoS2与石墨烯的复合纳米材料。
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