[发明专利]一种控制释放系统及其制备方法

摘要

本发明涉及一种基于介孔氧化硅纳米粒子的控制释放系统及其制备方法。本发明所述的控制释放系统是基于酶、抑制剂和底物三者之间的竞争性结合原理，通过介孔氧化硅材料表面的改性和修饰，制备一种刺激响应型的控制释放系统。在没有底物存在下，本发明所述的介孔氧化硅纳米粒子可达到“零提前释放”；当环境中有相应的底物时，介孔被打开，控制性地释放负载分子，并对相应的底物有较好的选择性。该方法具有材料合成简单，选择性好，“零提前释放”及可于相应底物存在下控制性释放负载分子的优点。

主权项

一种可用于控制释放的基于介孔氧化硅的纳米粒子，其特征在于，所述纳米粒子含有经小分子抑制剂功能化的介孔氧化硅纳米粒子和与所述小分子抑制剂结合的堵孔剂；其中，所述小分子抑制剂与所述堵孔剂的结合亲和力小于所述堵孔剂与底物的结合亲和力；其中，所述小分子抑制剂选自：4‑氨基安替比林，2‑氨基‑2‑脱氧‑D‑葡萄糖，氨酪酸，HMG‑CoA，二氢叶酸或乙酰胆碱；所述堵孔剂选自：辣根过氧化物酶，葡萄糖氧化酶，伴刀豆球蛋白，GABA转氨酶，HMG‑CoA还原酶，二氢叶酸还原酶，或乙酰胆碱酯酶；和所述底物选自：鲁米诺，葡萄糖，2‑氨基‑3‑炔基丁酸，洛伐他汀，甲氨蝶呤或毒扁豆碱。