[发明专利]一种厚钨涂层材料的制备方法及钨涂层材料

摘要

本发明涉及一种厚钨涂层材料的制备方法，用化学气相沉积法，通过氢气还原六氟化钨，在基层材料上沉积钨涂层。沉积速率为0.4-1mm/h，钨涂层厚度大于等于1mm。本发明还涉及一种钨涂层材料，包括纯铜或铜合金、适配层、以及钨涂层；适配层为1-5层的钨铜梯度材料，每层厚度为0.5-1.5mm；紧邻钨涂层一侧，钨铜梯度材料钨含量为50~90wt.%；中间各层钨铜梯度材料钨含量依次递减，铜含量依次递增；紧邻纯铜或铜合金一侧，钨铜梯度材料铜含量为50~90wt.%。本发明采用纯钨涂层-适配层-铜基材料方法，适配层可以解决钨和铜之间热膨胀系数不匹配的问题，减小涂层与基体的热应力。

主权项

一种厚钨涂层材料的制备方法，其特征在于：用化学气相沉积法，通过氢气还原六氟化钨，在基层材料上沉积钨涂层；六氟化钨和氢气纯度分别大于99.9%和99.99%；六氟化钨和氢气流量比为1：2~1：5；沉积温度范围为500℃‑700℃，沉积速率为0.4mm/h‑1mm/h，钨涂层厚度大于等于1mm。