[发明专利]晶圆键合系统无效
申请号: | 201210192228.6 | 申请日: | 2012-06-12 |
公开(公告)号: | CN103489805A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 王云翔;夏洋;李超波 | 申请(专利权)人: | 苏州美图半导体技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/603 | 分类号: | H01L21/603 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 215123 江苏省苏州市苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种晶圆键合系统,其包括:内部为真空键合腔;位于键合腔内的压头构件,该压头构件包括相互平行的第一压头与第二压头;柔性构件,柔性构件包括与键合腔隔离的气体收容腔,气体收容腔包括入气端以及出气端,第一压头仅固定于出气端以密封出气端;充压构件,该充压构件连接柔性构件的入气端以调整气体收容腔内压强。该晶圆键合系统通过在柔性构件的气体收容腔出气端覆盖第一压头,并对气体收容腔进行充气增加其内部压强,从而对覆盖于出气端的第一压头提供均匀的驱动压力,能够保证第一压头与第二压头之间的平行度,使得第一压头对晶圆所提供的键合压力更平稳,提高了晶圆键合的精度与质量。 | ||
搜索关键词: | 晶圆键合 系统 | ||
【主权项】:
一种晶圆键合系统,其特征在于,所述晶圆键合系统包括:键合腔,所述键合腔内为真空;压头构件,所述压头构件位于所述键合腔内,所述压头构件包括相互平行的第一压头与第二压头;柔性构件,所述柔性构件包括与所述键合腔隔离的气体收容腔,所述气体收容腔包括入气端以及出气端,所述第一压头仅固定于所述出气端以密封所述出气端;充压构件,所述充压构件连接所述柔性构件的入气端以调整所述气体收容腔内压强。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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