[发明专利]一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法有效
| 申请号： | 201210192287.3 | 申请日： | 2012-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN102707378A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 梅霆;万磊;王洪朝;郭克芹;杜康;朱凝 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | G02B6/13 | 分类号： | G02B6/13;G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 江裕强;何淑珍 |
| 地址： | 510275 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，首先要根据器件结构要求设计并加工模板，作为压印用的印章；其次，根据器件微纳光学结构的要求，选用合适衬底材料，并覆盖压印胶，之后，采用压印工艺，转移模板上的结构图案，固化成型，待模板与衬底都冷却后，释放模板，得到带有浮雕图形的微纳光学结构；最后，依照器件的设计，在印制纹路上方覆盖聚合物光学束缚层，形成完整的微纳光学结构。本发明可以制备耐候性好，热稳定性强，损耗低的光学器件，并且工艺简单，具有成本优势。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用 压印 技术 制作 硅酮 光学 结构 方法 | ||
【主权项】：
一种应用压印技术制作硅酮微纳光学结构的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一，按照器件掩膜板的图形，制作压印用模板或者印章；步骤二，在基底上覆盖待压印的硅酮聚合物材料作为压印胶，然后将压印用模板或者印章中的浮雕图形通过压印工艺转移到压印胶上，压印出微纳光学结构，固化后释放模板或印章；步骤三，根据器件设计结构，在压印得到的硅酮聚合物微纳光学结构上覆盖硅酮聚合物束缚层。
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