[发明专利]一种太阳能硅片清洗剂有效
| 申请号： | 201210194292.8 | 申请日： | 2012-06-13 |
| 公开（公告）号： | CN103484261A | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 支田田;周君;杨长剑 | 申请（专利权）人： | 浙江瑞翌新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/83 | 分类号： | C11D1/83;C11D3/60;C11D3/33;C11D3/30;C11D3/04;C11D3/08 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李玉秋 |
| 地址： | 314117 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种太阳能硅片清洗剂，包括：1wt%~15wt%的异构醇聚氧乙烯醚；1wt%~15wt%的丙二醇醚；0.5wt%~10wt%的乙二胺四乙酸四钠盐；大于零且小于等于10wt%的阴离子表面活性剂；大于零且小于等于20wt%的pH调节剂和余量的水。本发明采用阴离子表面活性剂与异构醇聚氧乙烯醚复配，从而使清洗剂具有较强的清洗能力；选用了丙二醇醚为溶剂，此类溶剂是一种低毒无刺激的有机溶剂；本发明同时选用了乙二胺四乙酸四钠盐作为金属离子络合剂，有效去除硅片表面的铜、铁等金属离子；最后本发明选用pH调节剂，调节清洗剂的pH值，有效去除硅片表面的油污，且清洗效果持久耐用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能 硅片 洗剂 | ||
【主权项】：
一种太阳能硅片清洗剂，其特征在于，包括：1wt%~15wt%的异构醇聚氧乙烯醚；1wt%~15wt%的丙二醇醚；0.5wt%~10wt%的乙二胺四乙酸四钠盐；大于零且小于等于10wt%的阴离子表面活性剂；大于零且小于等于20wt%的pH调节剂；余量的水。
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