[发明专利]微纳米透镜片辅助聚光光刻工艺制备有序微纳米结构

摘要

本发明一种微纳米透镜片辅助聚光光刻工艺，这一工艺实现了有序微纳米结构的制备。在基片上覆盖微纳米透镜片作为聚光掩膜，利用微纳米透镜片上的有序微纳米半球对光的聚集作用，对光刻胶曝光。该工艺克服了纳米球光刻工艺中，需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。该工艺在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉便于工业化生产。在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。能广泛应用于LED、LD、HEMT、量子点存储器、太阳能电池、燃料电池双极板、微流控器件等半导体光电子器件微纳米结构制造。

主权项

微纳米透镜片辅助聚光光刻工艺制备有序微纳米结构，包括以下步骤：步骤1)在一基底10上涂一层光刻胶11；步骤2)在光刻胶11上，放置一个微纳米透镜片12；步骤3)用光照13曝光；步骤4)显影之后在光刻胶11表面形成纳米网孔；步骤5)通过湿法或者干法将图形转移到基底10。