[发明专利]利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法

摘要

本发明公开了一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确定稳态速率，找出过渡区的划分点，并得到该过渡区的划分点所对应的循环次数和生长速率，该循环次数和该生长速率的乘积为预沉积层厚度基准；3）在宽带抗反射多层膜初始膜系和基材之间引入一层预沉积层，并进行优化；4）利用原子层沉积技术，在新的基材按厚度优化值先沉积预沉积层，再交替沉积第二折射率层和第一折射率层，制备得到高精度光学宽带抗反射多层膜，精度极高，抗反射性能优异。

主权项

一种利用原子层沉积制备高精度光学宽带抗反射多层膜的方法，包括以下步骤：1）利用原子层沉积技术，在基材上沉积第一折射率层，所述的第一折射率层由不同循环次数下累积膜得到，测得不同循环次数下的第一折射率层的厚度，并计算相应的生长速率，以循环次数为横坐标、以生长速率为纵坐标绘制成速率曲线；2）通过速率曲线确定稳态速率，速率曲线上在达到稳态速率之前临近稳态速率且生长速率的波动小于等于稳态速率的10%的点作为过渡区的划分点，并得到该过渡区的划分点所对应的循环次数和生长速率，该循环次数和该生长速率的乘积即为预沉积层厚度基准；3）在宽带抗反射多层膜初始膜系和基材之间引入一层预沉积层，所述的宽带抗反射多层膜初始膜系由第二折射率层和第一折射率层交替排列组成，然后对宽带抗反射多层膜初始膜系和预沉积层进行优化，优化过程中约束预沉积层厚度大于预沉积层厚度基准，得到预沉积层、第二折射率层和第一折射率层的厚度优化值；4）利用原子层沉积技术，在新的基材上按所述厚度优化值先沉积预沉积层，再交替沉积第二折射率层和第一折射率层，制备得到高精度光学宽带抗反射多层膜。