[发明专利]可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光系统及方法有效
| 申请号： | 201210202600.7 | 申请日： | 2012-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN102707584A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | 丁海生;李东昇;马新刚;江忠永;张昊翔;王洋;李超;黄捷;黄敬 | 申请（专利权）人： | 杭州士兰明芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/10;G02B26/08;G02B27/09;G02B5/08 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州市杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光系统，包括激光光源、扩束准直系统、分束合光装置和两个可转动晶片夹持器,分束合光装置包括第一分束合光棱镜、第二分束合光棱镜和两个反射镜，激光光源、扩束准直系统和第一分束合光棱镜由前至后依次设置，两个反射镜分别位于第一分束合光棱镜的后面和侧面，第一、第二分束合光棱镜和两个反射镜所在的位置组成平行四边形，两个可转动晶片夹持器分别位于第二分束合光棱镜的后面和侧面，电动快门设置于激光光源和扩束准直系统之间或者设置于扩束准直系统和第一分束合光棱镜之间。还公开了一种可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光方法。本发明结构简单、价格低廉、易于实现。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制作 光子 晶体 掩膜层 光束 曝光 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种可用于制作光子晶体掩膜层的双光束曝光系统，其特征在于，包括激光光源、扩束准直系统、分束合光装置和两个可转动晶片夹持器，所述分束合光装置包括第一分束合光棱镜、第二分束合光棱镜和两个反射镜，所述激光光源、扩束准直系统和第一分束合光棱镜由前至后依次设置，所述两个反射镜分别位于所述第一分束合光棱镜的后面和侧面，第一、第二分束合光棱镜和两个反射镜所在的位置组成平行四边形，所述两个可转动晶片夹持器分别位于第二分束合光棱镜的后面和侧面；激光光源发出的激光经扩束准直系统扩束准直后，经第一分束合光棱镜分成两束光，两束光分别经对应的反射镜反射后传播到第二个分束合光棱镜处，经第二个分束合光棱镜合光后交叠在两个可转动晶片夹持器上。
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