[发明专利]形成金属氟化物膜的方法和制造光学器件的方法有效
申请号: | 201210203438.0 | 申请日: | 2012-06-15 |
公开(公告)号: | CN102828151A | 公开(公告)日: | 2012-12-19 |
发明(设计)人: | 秋叶英生 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/34;G02B1/11 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 形成金属氟化物膜的方法中,使用金属靶和含有O2气和作为碳氟化合物气体的反应性气体的混合气体通过溅射在基板上形成金属氟化物膜。 | ||
搜索关键词: | 形成 金属 氟化物 方法 制造 光学 器件 | ||
【主权项】:
形成金属氟化物的方法,包括:使用金属的靶和混合气体通过反应溅射在基板上形成金属氟化物膜,该混合气体含有O2气和反应性气体,该反应性气体为碳氟化合物气体。
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