[发明专利]具有超晶格结构的太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201210203843.2 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN102738267A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 郑新和;李雪飞;张东炎;吴渊渊;陆书龙;杨辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/077;H01L31/18 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 孙佳胤;翟羽 |
地址: | 215125 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种具有超晶格结构的太阳能电池,包括第一GaAs层和有源区,所述有源区置于第一GaAs层的裸露表面上,所述有源区包括第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构,所述第二GaNAs/InGaAs超晶格结构设置于第一GaNAs/InGaAs超晶格结构表面,且所述第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构中的InGaAs层厚度不同。本发明还提供一种如上述具有超晶格结构的太阳能电池的制备方法,在第一GaAs层的裸露表面上生长两种GaNAs/InGaAs超晶格结构以形成有源区,所述两种GaNAs/InGaAs超晶格结构中的InGaAs层厚度不同。 | ||
搜索关键词: | 具有 晶格 结构 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有超晶格结构的太阳能电池,其特征在于,包括第一GaAs层和有源区,所述有源区置于第一GaAs层的裸露表面上,所述有源区包括第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构,所述第二GaNAs/InGaAs超晶格结构设置于第一GaNAs/InGaAs超晶格结构表面,且所述第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构中的InGaAs层厚度不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的