[发明专利]一种光学纯高喜树碱中间体的制备方法及其应用有效

专利信息
申请号: 201210204092.6 申请日: 2012-06-19
公开(公告)号: CN102702213A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 张万年;缪震元;祝令建;盛春泉;姚建忠 申请(专利权)人: 中国人民解放军第二军医大学
主分类号: C07D491/147 分类号: C07D491/147;C07D491/22
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 丁振英
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及合成光学纯高喜树碱的手性中间体化合物R-CDE环(I)的制备方法及其应用。高喜树碱的化学结构中存在一个手性中心,构效关系研究表明:R构型异构体活性明显高于S构型异构体,制备R-高喜树碱的关键是获得光学纯的中间体R-CDE环(I)。本发明提供一种制备R-CDE环(I)的方法,合成路线如下:其中,R1为氢或含C1~C5的直链烷基,R2和R3为相连的或不相连的含C1~C5的直链或支链烷基。本发明提供了一种分离简便、成本低廉、收率和纯度高的R-CDE环(I)的制备方法。
搜索关键词: 一种 光学 喜树碱 中间体 制备 方法 及其 应用
【主权项】:
1.一种光学纯高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法,其化学结构如下:式中R1为氢或含C1~C5的直链烷基,具体步骤为:1)将化合物(III)溶解于溶剂配制成溶液,在强碱催化下,与磷酰基乙酸三乙酯经HWE反应生成反式α,β-不饱和酯化合物(IV):其中,R1为氢或含C1~C5的直链烷基,R2和R3为相连的或不相连的含C1~C5的直链或支链烷基,所说的碱选自氨基钠、叔丁醇钾、氢化钠,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~35℃,反应时间控制在12~36小时;2)将反式α,β-不饱和酯化合物(IV)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,选择性还原成丙烯醇化合物(V):所说的还原剂选自四氢铝锂、二异丁基氢化铝或红铝,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-100℃~-20℃,反应时间控制在2~6小时;3)将丙烯醇化合物(V)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,采用经典的Sharpless不对称环氧化方法,转化生成化合物(VI):所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-50℃~-5℃,反应时间控制在6~18小时;4)将化合物(VI)溶解于溶剂配制成溶液,在氮气保护下,选择性环氧开环反应生成二醇化合物(VII):所说的还原剂选自四氢铝锂、二异丁基氢化铝或红铝,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、苯中的一种或几种,反应温度为-50℃~-5℃,反应时间控制在6~18小时;5)将二醇化合物(VII)溶解于溶剂配制成溶液,用戴斯-马丁试剂和NaClO2/KH2PO4氧化生成化合物(VIII):所说的溶剂选自甲醇、乙醇、异丙醇或叔丁醇,反应温度为0℃~60℃,反应时间控制在24~48小时;6)将化合物(VIII)溶解于溶剂配制成溶液,在酸性条件下水解生成酸,同时脱去酮羰基的保护基团,并环合生成R-CDE环(I):所说的酸性条件所用的酸选自盐酸、硫酸、磷酸、氢溴酸、硝酸,或醋酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、水杨酸、草酸中的一种或几种,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚、乙醇中的一种或几种,反应温度为30℃~100℃,反应时间控制在4~8小时。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军第二军医大学,未经中国人民解放军第二军医大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210204092.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top