[发明专利]一种用于太阳能电池缓冲层CdS薄膜的电子束制备法无效

专利信息
申请号: 201210206615.0 申请日: 2012-06-21
公开(公告)号: CN102703860A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 门传玲;曹敏;朱德明;曹军;邓闯;张华 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/30;C23C14/58;H01L31/18
代理公司: 上海东创专利代理事务所(普通合伙) 31245 代理人: 宁芝华
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于太阳能电池缓冲层CdS薄膜的制备方法,在真空条件下,将CdS粉末通电加热后采用升华的方式蒸发沉积到衬底上形成CdS薄膜,具体步骤为:选择玻璃、不锈钢金属箔或硅片作为衬底,将其放入50~100℃含有表面活性剂的水溶液中处理2h后,再放入丙酮中超声5~20min,用去离子水中超声10~30min,氮气吹干;将纯度为99.99%的CdS粉末放入蒸发舟或坩埚内并固定于电子束热蒸发设备上,将反应室抽真空至10-3Pa以下,样品衬底温度为20~200℃;控制电流在20~30A之间;蒸发时间为5~15min;在100~400℃温度下和氮气或氦气保护气氛下退火处理1~120min,得到CdS薄膜。本发明具有工艺简单、耗费低、且薄膜更加致密、光滑均匀等优点,拥有更佳的光电性能,适合大规模生产。
搜索关键词: 一种 用于 太阳能电池 缓冲 cds 薄膜 电子束 制备
【主权项】:
一种用于太阳能电池缓冲层CdS薄膜的制备方法,其特征在于:在真空条件下,将CdS粉通电加热后采用升华的方式蒸发沉积到衬底上形成CdS薄膜,具体步骤如下:A)衬底处理:选择玻璃、不锈钢或者金属箔作为衬底,将其放入50~100℃含有表面活性剂的水溶液中处理2h,再将衬底放在丙酮中超声5~20min,最后在去离子水中超声10~30min,用氮气吹干,放入干燥环境中备用;B)缓冲层CdS薄膜的制备:采用纯度为99.99%的CdS粉末作为蒸镀材料,将其放入蒸发舟或坩埚作为蒸发源固定于电子束热蒸发设备上,将反应室抽真空至10‑3Pa以下,如4×10‑3Pa,样品衬底温度为20~200℃;控制电流在10~30A之间;CdS粉末蒸发沉积速率为0.1~0.3nm∕s,蒸发时间为5~15min;C)退火处理:将步骤B)得到的CdS薄膜在100~400℃温度下和氮气或氦气保护气氛下退火处理1~120min,得到更加致密、均匀且具有更好光电性能的CdS薄膜。
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