[发明专利]波前修正设备、光刻设备以及方法有效
| 申请号： | 201210207908.0 | 申请日： | 2012-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN102841511A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 罗坦·艾哈迈多维奇·斯匹克汉诺夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种具有多个声波发射器的波前修正设备，声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。声波发射器可以配置成建立至少部分地延伸跨过辐射束管道的驻声波。可以在光刻设备中设置波前修正设备，可以使用波前修正设备修正被光刻设备使用以将图案投影到衬底上的辐射束的波前。 | ||
| 搜索关键词： | 修正 设备 光刻 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种波前修正设备，包括多个声波发射器，所述多个声波发射器配置成发射至少部分地行进跨过辐射束管道的声波。
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