[发明专利]一种真空处理系统阀门组件和化学气相沉积系统

摘要

本发明公布了一种真空处理系统阀门组件和化学气相沉积系统。所述真空处理系统阀门组件包括：设有传输通孔的隔板和与所述传输通孔对应的密封阀机构；所述密封阀机构包括背板、安装于所述背板上的密封板和位于背板和隔板之间的用于控制所述密封板对传输通孔的密封的气囊，所述密封板与所述通孔结构相匹配；所述气囊的工作温度高于100℃。所述真空处理系统阀门组件，通过气囊从而控制所述密封板与隔板上的传输通孔开合实现隔板两侧导通与密封，提升隔板两侧的密封与导通效果；而且所述的气囊的工作温度高于100℃，提高了真空处理系统阀门组件的工作稳定性，即使高温条件下，也不会影响薄膜沉积工艺进程的稳定性。

主权项

一种真空处理系统阀门组件，其特征在于，包括：隔板，在所述隔板上设有传输通孔；与所述传输通孔对应的密封阀机构，所述密封阀机构包括背板、气囊以及安装于所述背板上的密封板；所述密封板与所述传输通孔结构相匹配，且所述密封板与背板之间设有所述气囊，用于控制所述密封板对传输通孔的密封；所述气囊的工作温度高于100℃。