[发明专利]基于多铁或铁电材料的自旋晶体管在审
申请号: | 201210211089.7 | 申请日: | 2012-06-20 |
公开(公告)号: | CN103515426A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 陶玲玲;刘东屏;刘厚方;韩秀峰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01L29/66 | 分类号: | H01L29/66 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种基于多铁/铁电材料利用电场驱动的自旋晶体管器件,该晶体管具有多层膜结构,势垒层可选用多铁材料或铁电材料。该自旋晶体管可采用共振隧穿方式工作,该共振隧穿模式可在外电场下通过多铁性材料或铁电性材料调节,实现传统晶体管的开关和放大特性;该自旋晶体管也可采用电场调节磁化强度的方式工作,该电场调节磁化强度通过多铁材料或铁电性材料的磁电耦合特性来调控磁性层材料的磁化强度方向,实现传统晶体管的开关和放大特性。上述两种基于多铁材料或铁电性材料的新型的自旋晶体管与传统的自旋晶体管相比,自由层磁矩方向的改变不需要外加磁场的调控。该自旋晶体管与传统的半导体晶体管相比具有结构简单,有利于集成和加工等特性。 | ||
搜索关键词: | 基于 材料 自旋 晶体管 | ||
【主权项】:
一种自旋晶体管,该自旋晶体管具有多层膜结构,其特征在于,该多层膜结构以多铁或铁电材料作为势垒层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210211089.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:发光二极管结构及其制造方法
- 下一篇:一种实时验证发票的真伪的系统和方法
- 同类专利
- 专利分类