[发明专利]一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜有效

专利信息
申请号: 201210211252.X 申请日: 2012-06-20
公开(公告)号: CN102707342A 公开(公告)日: 2012-10-03
发明(设计)人: 李智;岳嵩;陈建军;龚旗煌 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 张肖琪
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜。本发明的表面等离激元透镜包括:衬底、金膜、纳米缝圆环和金属纳米腔;其中,金膜镀在衬底的上表面;纳米缝圆环位于金膜上并穿透金膜;以及金属纳米腔为矩形浅槽,位于纳米缝圆环的中心,从金膜的上表面开始刻到金膜内一定深度但没有刻透。本发明的表面等离激元透镜在金属纳米腔共振的情况下,可以将光场局域到小至6.0×10-3λ02(λ0是入射光的自由空间波长)的一个光斑,同时透镜中心的光强相比无腔的情况增强了5500倍。光源避免了径向偏振光的使用,也不要求光束中心和透镜中心的精确对准,应用范围更大,使用更方便。而且,本发明的表面等离激元透镜便于加工,易于高质量的制备。
搜索关键词: 一种 集成 金属 纳米 表面 离激元 透镜
【主权项】:
一种集成金属纳米腔的表面等离激元透镜,其特征在于,所述表面等离激元透镜包括:衬底(1)、金膜(2)、纳米缝圆环(3)和金属纳米腔(4);其中,金膜(2)镀在衬底(1)的上表面;纳米缝圆环(3)位于金膜(2)上并穿透金膜;以及金属纳米腔(4)为矩形浅槽,位于纳米缝圆环(3)的中心,从金膜(2)的上表面开始刻到金膜内一定深度但没有刻透。
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