[发明专利]光学器件以及光学器件的制造方法无效
| 申请号： | 201210212088.4 | 申请日： | 2012-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN102841481A | 公开（公告）日： | 2012-12-26 |
| 发明（设计）人： | 井出昌史;小味山刚男;野崎孝明 | 申请（专利权）人： | 西铁城控股株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/365 | 分类号： | G02F1/365 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 高科 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种光学器件以及光学器件的制造方法，能够抑制光学元件的位置偏移以及光学元件的光波导的特性变化。本发明的光学器件具有：第1光学元件；与第1光学元件光学结合的第2光学元件；以及搭载了第1光学元件以及第2光学元件的第1硅基板，其中，第2光学元件具有第2硅基板以及与第2硅基板贴合的波导基板，第2光学元件以波导基板面对第1硅基板的状态搭载与第1硅基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学器件，其特征在于，包括：第1光学元件；第2光学元件，与所述第1光学元件光学结合；以及第1硅基板，搭载了所述第1光学元件以及所述第2光学元件，其中，所述第2光学元件包括第2硅基板以及与所述第2硅基板贴合的波导基板，所述第2光学元件以所述波导基板面对所述第1硅基板的状态搭载于所述第1硅基板上。
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