[发明专利]单分散水油液滴阵列超小反应器及制备方法、使用方法无效
申请号: | 201210219210.0 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN102716707A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 吴天准;王玉超;苏宇泉;项荣;桂许春;祝渊;汤子康;铃木宏明;四方哲也 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 陈卫 |
地址: | 510275 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种单分散水油液滴阵列超小反应器及其制备方法与使用方法,包括衬底、与衬底邦定的沟道;所述沟道与衬底之间形成主通道;所述主通道的宽度与深度比≥20;所述沟道靠近主通道的一侧有微阱阵列,且所述主通道和微阱阵列形成垂直方向的三维结构;所述沟道两侧开孔,分别作为液体的入口和出口。该制备方法使用简单有效而廉价,可原位产生大量W/O微液滴组成的阵列;通过使用方法,产生的液滴的大小均匀、可控,可达到飞升量级,原理上可达到更小体积。 | ||
搜索关键词: | 散水 油液滴 阵列 反应器 制备 方法 使用方法 | ||
【主权项】:
一种单分散水油液滴阵列超小反应器的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)涂布:通过旋转涂布将光刻胶均匀涂于衬底上,形成第一光刻胶层;2)光刻:在第一光刻胶层上表面均匀旋涂光刻胶,形成第二光刻胶层;经过对准和光刻之后,在第二光刻胶层进行显影处理,形成若干均匀分布的凸起;3)成型:在经过上述步骤2)处理的衬底上浇铸聚二甲基硅氧烷溶液,经脱气后在50°C ‑90°C的温度下加热固化,在上述步骤2)处理的衬底形成聚二甲基硅氧烷图形膜;且所述聚二甲基硅氧烷图形膜覆盖所述第一光刻胶层与第二光刻胶层;4)钻孔:脱模,将聚二甲基硅氧烷图形膜从衬底上剥下;该聚二甲基硅氧烷图形膜上与凸起接触的位置形成微阱,若干所述微阱形成微阱阵列;所述该聚二甲基硅氧烷图形膜上相应第一光刻胶层的位置形成主通道;该聚二甲基硅氧烷图形膜两侧钻孔,分别作为液体的入口和出口;该入口和出口贯穿聚二甲基硅氧烷图形膜且与主通道相接;5)邦定:将微阱阵列与主通道相对;接着用氧等离子体方法将经过步骤6)处理的聚二甲基硅氧烷图形膜与玻璃进行表面活化以完成粘接邦定;即制成单分散水油液滴阵列超小反应器。
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